Étape 5: Exposer la plaquette en utilisant le photomasque
Puis, j’ai appliqué résine photosensible à une plaquette de silicium fraîches et exposés de la plaquette pour une courte rafale de lumière UV intense par le biais de la photolithographie.
Préparation de la plaquette :
Cône d’hélice Resist manuelle :
Apprêt : P-20: 3 k tr/min, 1 k/s, 30 s
Résine photosensible : S1827: 3 k tr/min, 1 k/s, 30 s
Plaque chauffante :
Cuire au four @ 115 C, pendant 1 min
Temps d’exposition :
EV620 Communiquer avec dispositif d’alignement :
Mode : Contact dur
Temps: 5 s